某 OEM 廠商為了提高鍍膜機鍍膜的品質, 其為客戶搭建的多靶磁控濺射鍍膜機的濺射源采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000, 真空腔體搭配的是伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 2300.
KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:
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射頻離子源型號 |
RFICP380 |
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Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
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離子束流 |
>1500 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
39 cm |
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直徑 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數:
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離子源型號 |
eH3000 |
eH3000LO |
eH3000MO |
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Cathode/Neutralizer |
HC |
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電壓 |
50-250V |
50-300V |
50-250V |
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電流 |
20A |
10A |
15A |
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散射角度 |
>45 |
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可充氣體 |
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
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氣體流量 |
5-100sccm |
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高度 |
6.0“ |
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直徑 |
9.7“ |
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水冷 |
可選 |
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F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
渦輪分子泵 HiPace 2300 技術參數：
